微小的日本公司帮助破解下一代计算机芯片的代码

芯片制造商花费了二十年时间投入革命性的新技术，以突破物理极限并将更多晶体管塞入硅片。现在，技术正处于成为主流的风口浪尖，这得益于一家秘密的日本公司，该公司已经掌握了从鱿鱼捕捞到电影放映应用光的技术。

Ushio公司7月宣布，它已经清除了一个重要的里程碑，完善了基于极紫外光刻或EUV测试芯片设计所需的功能强大的超精密灯，这是制造下一代半导体的过程。有了这个，日本公司成为未来芯片制造的主要参与者。

“基础设施现在已经准备好了，”首席执行官Koji Naito在接受采访时表示。“测试设备是阻碍EUV的因素之一。有了这个部分，生产效率和产量就会增加。“

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Ushio的进步巩固了其在众多知名日本公司中的地位，这些公司对于世界消费电子产品的生产不可或缺。这家总部位于东京的公司开发了一种用于测试所谓掩模的设备的光源：玻璃方块比CD盒略大，可作为芯片设计的模板。这些模板必须绝对完美，因为即使是其中一个模块中的微小缺陷也会导致大批量中的每个芯片无法使用。

这就是Ushio的用武之地。它的技术使用激光将液态锡蒸发成等离子体，并产生比人眼可见光谱更接近X射线的光。这种光有助于芯片制造商发现产品中的潜在缺陷。这个过程需要一个房间大小的机器，看起来像科幻死亡射线，需要一队人来操作。Naito表示，经过15年的发展，EUV业务将开始为下一财年的利润做出贡献，但没有提供进一步的细节。

转向EUV是几十年前趋势的结晶。20世纪70年代集成电路取代真空管时开始出现的较小几何形状的推动即将进入最后阶段，可以在该领域竞争的公司数量已经减少到少数。只有英特尔公司，三星电子公司和台湾半导体制造公司计划使用EUV，而不是目前CPU设计最先进的7纳米工艺。这三家公司将使用ASML Holding NV的光刻机，以及像Ushio这样的一些专业供应商，这意味着有机会在各自的市场中占有100%的份额。

“我们不追逐大众市场，尽管在家庭照明或汽车领域可能会有大量资金，”内藤说。“相反，我们希望专注于利基领域并做其他人无法做到的事情。”

Naito认为，Ushio的目标是控制用于测试图案化EUV面罩的光源市场，而一小部分日本同行则专注于该技术的其他方面。例如，JSR Corp.和Tokyo Ohka Kogyo Co.控制印刷设计所需的光敏树脂的生产，而空白面罩仅由两家公司AGC Inc.和Hoya Corp.制造，两家公司都使用Lasertec公司的机器测试缺陷。所有这些都位于大东京地区，并且支持对高精度制造的近乎手工艺的承诺。